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具有梯度结构的辐射制冷涂层及其制备方法与应用
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专利号
2020104847578
专利类型
发明
申请日
2020-06-01 00:00:00
公开日
2020-09-22 00:00:00
法律状态
有效
国家/地区
中国
IPC分类号
C09D129/14
技术领域
C-化学；冶金
申请人/权利人
华中科技大学
摘要
本发明公开了一种具有梯度结构的辐射制冷涂层及其制备方法与应用，属于新材料领域。本发明提供一种具有梯度结构的辐射制冷涂层，所述涂层包括共混的聚合物黏合剂和无机粉体，所述聚合物黏合剂在中红外波段发射率高于0.85，所述无机粉体在太阳光谱波段反射率高于0.85，在远离辐射面方向上，聚合物黏合剂含量逐渐降低，无机粉体的含量逐渐升高。这样可以保证涂层中大量的聚合物黏合剂在上，无机粉体在下，由于聚合物黏合剂用