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一种可局部测量的显微成像膜厚测量装置
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专利号
2020102759534
专利类型
发明
申请日
2020-04-09 00:00:00
公开日
2020-07-03 00:00:00
法律状态
有效
国家/地区
中国
IPC分类号
G01B11/06
技术领域
G-物理
申请人/权利人
武汉颐光科技有限公司; 华中科技大学
摘要
本发明涉及光学薄膜测量技术领域,特别涉及一种可局部测量的显微成像膜厚测量装置,包括:光路组件、载物组件及机架组件,载物组件设置在机架组件上;光路组件连接在机架组件上;光路组件用于对载物组件上的薄膜进行光学测量。本发明提供的可局部测量的显微成像膜厚测量装置,光源可同时作为测量光源和照明光源,不仅能发出测量光束,同时能提供对测量区域标记的光束,不需要另外设置照明光源,可避免对测量光源带来杂散光,提高了
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