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一种用于分子束外延均匀加热的系统及加热方法
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专利号
2021112691509
专利类型
发明
申请日
2021-10-29 00:00:00
公开日
2022-02-01 00:00:00
法律状态
有效
国家/地区
中国
IPC分类号
C30B23/06
技术领域
C-化学；冶金
申请人/权利人
华中科技大学
摘要
本发明公开了一种用于分子束外延均匀加热的系统及加热方法，属于晶体薄膜外延生长技术领域，包括样品台、加热组件和隔热组件；样品台内部设有隔热组件，其底部用于放置衬底基片；加热组件包括电机、加热器支架和红外线辐射加热器；加热器支架的一端与所述电机的输出轴相连，其另一端依次穿过样品台、隔热组件后与红外线辐射加热器相连；电机用于驱动加热器支架旋转从而带动红外线辐射加热器转动以对位于样品台底部的衬底基片的一面