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大气常温下激光诱导化学合成微纳尺度MoS2的方法及应用
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专利号
2020113441332
专利类型
发明
申请日
2020-11-25 00:00:00
公开日
2021-03-12 00:00:00
法律状态
有效
国家/地区
中国
IPC分类号
C01G39/06
技术领域
C-化学;冶金
申请人/权利人
华中科技大学
摘要
本发明属于化学合成材料技术领域,并具体公开了大气常温下激光诱导化学合成微纳尺度MoS2的方法及应用,该方法利用飞秒激光直接作用于包含钼源和硫源的前驱体上以诱导其发生光热化学反应进而生成目标产物MoS2,该方法可应用在微纳气体探测器的制备中。本发明实现了大气常温下微纳尺度MoS2产物的制备以及MoS2图案快速直写加工,同时通过调节激光参数实现产物形貌控制,并基于该技术实现了MoS2材料在微纳气体探测
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