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一种可见光调控的全氟取代二噻吩基乙烯化合物、其制备和应用
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专利号
2020112719514
专利类型
发明
申请日
2020-11-13 00:00:00
公开日
2021-02-26 00:00:00
法律状态
有效
国家/地区
中国
IPC分类号
C07D333/20
技术领域
C-化学；冶金
申请人/权利人
华中科技大学
摘要
本发明属于新材料领域，更具体地，涉及一种可见光调控的全氟取代二噻吩基乙烯化合物、其制备和应用。本发明通过对全氟取代二噻吩基乙烯化合物进行取代基的修饰设计，使分子吸收红移，合成全可见光驱动的二噻吩基乙烯分子开关，提高抗疲劳性，极大地扩展光致变色开关的材料和生物应用领域。本发明优选实施例中二噻吩基乙烯化合物在405nm可见光照射前后在CD2Cl2中的核磁氢谱发生的变化，光异构率分别为96％和98％，三