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一种双石英晶振膜厚控制仪及误差校正方法
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专利号
2020105546277
专利类型
发明
申请日
2020-06-17 00:00:00
公开日
2020-10-27 00:00:00
法律状态
有效
国家/地区
中国
IPC分类号
G01B7/06
技术领域
G-物理
申请人/权利人
华中科技大学
摘要
本发明公开了一种双石英晶振膜厚控制仪及误差校正方法，属于膜厚监测领域，包括：真空室，真空室内的蒸镀源、基片结构和双石英晶振片结构，真空室外的振荡器和控制装置；基片结构内含作为镀膜载体的基片；双石英晶振片结构包括：一对或多对石英晶振片，固定在真空室内壁上的第一外壳，其面向蒸镀源的一面设有第一窗口，其内设有第一转盘，每一对石英晶振片固定于第一转盘的两面，且通过导热材料相连；振荡器用于向第一窗口处的一对