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一种基于双代码联合作用的样条轨迹控制指令优化方法
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专利号
2020103407496
专利类型
发明
申请日
2020-04-26 00:00:00
公开日
2020-08-04 00:00:00
法律状态
有效
国家/地区
中国
IPC分类号
G05B19/4097
技术领域
G-物理
申请人/权利人
华中科技大学
摘要
本发明属于数控加工相关技术领域，并公开了一种基于双代码联合作用的样条轨迹控制指令优化方法。该方法包括下列步骤：(a)设定待加工对象的理想加工轨迹，根据设定的理想加工轨迹生成G代码；(b)绘制G代码对应的加工轨迹，以此获得实际加工轨迹，将该实际加工轨迹与所述理想加工轨迹进行比对，获得区别特征，在所述G代码中寻找与所述区别特征对应的代码，即区别特征代码；(c)根据所述区别特征，对于所述区别特征代码进行