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测量分布反馈激光器纵向光场分布的装置及其测量方法
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专利号
2021101001425
专利类型
发明
申请日
2021-01-26 00:00:00
公开日
2021-06-08 00:00:00
法律状态
有效
国家/地区
中国
IPC分类号
G01N21/41
技术领域
G-物理
申请人/权利人
华中科技大学
摘要
本发明公开了一种测量分布反馈激光器纵向光场分布的装置及其测量方法，包括由局部面发射激光器构成的激光器阵列；局部面发射激光器与待测分布反馈激光器相比，除上内包层以外，其余部分均相同；局部面发射激光器中的上内包层内刻写有选模光栅和耦合结构；且耦合结构所在的位置处的顶部不覆盖电极，耦合结构用于实现波导模式到垂直端面出射模式的耦合；各局部面发射激光器的纵向腔体的长度均与待测分布反馈激光器的纵向腔体的长度相