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一种激光扫描光学系统
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专利号
2021116657225
专利类型
发明
申请日
2021-12-31 00:00:00
公开日
2022-03-01 00:00:00
法律状态
有效
国家/地区
中国
IPC分类号
B23K26/06
技术领域
B-作业；运输
申请人/权利人
华中科技大学
摘要
本发明公开了一种激光扫描光学系统，属于激光加工技术领域，包括第一光楔和第二光楔，且第一光楔的旋转轴、第二光楔的旋转轴以及光轴两两互相垂直；在扫描信号的控制下，第一光楔和第二光楔分别在相互垂直的两个方向上进行旋转，光楔在旋转时可以微调激光出射时的偏角，从而控制激光的焦点沿x轴和y轴方向移动。激光偏转角改变量与光楔旋转角改变量近似为二次函数关系。例如，使用波长为532nm的激光，在100mm聚焦场镜条