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一种磁性薄膜的磁光参数表征方法及系统
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专利号
2021111623133
专利类型
发明
申请日
2021-09-30 00:00:00
公开日
2022-01-11 00:00:00
法律状态
有效
国家/地区
中国
IPC分类号
G01N21/21
技术领域
G-物理
申请人/权利人
华中科技大学
摘要
本发明公开了一种磁性薄膜的磁光参数表征方法及系统，属于磁光偏振测量领域，包括：测量由基底、磁性薄膜及空气所构成的三介质系统的椭偏参数ψ、Δ和全穆勒矩阵M；利用M分别计算入射P光到反射P光和反射S光的反射系数rPP和rSP，以及入射S光到反射P光和反射S光的反射系数rPS和rSS，并利用ψ、Δ进行椭偏分析，以获得厚度d和复折射率N2；利用所计算的反射系数及椭偏分析结果计算复磁光耦合系数Q，并计算P光