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一种针对自由曲面的摆线式扫描测量轨迹规划方法及系统
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专利号
2021101159462
专利类型
发明
申请日
2021-01-28 00:00:00
公开日
2021-05-28 00:00:00
法律状态
有效
国家/地区
中国
IPC分类号
G05B19/19
技术领域
G-物理
申请人/权利人
华中科技大学
摘要
本发明公开了一种针对自由曲面的摆线式扫描测量轨迹规划方法及系统，属于自由曲面的五轴连续式测量领域，目的是通过避免测头旋转轴的频繁加减速以提高机器的动态性能，从而提高测量效率。本发明包括测头轨迹曲线生成步骤、摆线步长确定步骤、摆线扫描轨迹扩展步骤。通过本发明，在扫描测量过程中，不仅可使C轴始终保持相同的旋转方向，必要时还可保持恒定的角速度，避免了因C轴旋转方向突变引起的振动，显著提升测量机的动态性能