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一种用于分离富集紫杉烷的中空多孔介质、其制备和应用
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专利号
2021111829564
专利类型
发明
申请日
2021-10-11 00:00:00
公开日
2022-01-14 00:00:00
法律状态
有效
国家/地区
中国
IPC分类号
C08F292/00
技术领域
C-化学；冶金
申请人/权利人
华中科技大学
摘要
本发明属于分子印迹聚合物技术领域，更具体地，涉及一种用于分离富集紫杉烷的中空多孔介质、其制备和应用。本发明首先通过在硅胶颗粒表面接枝具有双键的硅烷化试剂，然后利用表面分子印迹技术在硅胶颗粒表面形成一定厚度的分子印迹聚合层，最后利用氢氟酸将无定型硅胶以及分子印迹聚合层内部笼状倍半硅氧烷试剂溶蚀，从而获得高比表面积和孔隙率，同时对紫杉烷结构具有高选择吸附性能的中空多孔介质。该工艺获得的中空多孔介质可同