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一种物理气相沉积Ta‑C涂层及设有该涂层的工件
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专利号
2017204217613
专利类型
实用新型
申请日
2017-04-20 00:00:00
公开日
2018-04-03 00:00:00
法律状态
有效
国家/地区
中国
IPC分类号
C23C14/34
技术领域
C-化学；冶金
申请人/权利人
上海应用技术大学
摘要
本实用新型涉及物理气相沉积硬质涂层，具体公开了一种Ta‑C多层硬质涂层。本实用新型采用Ti靶和石墨靶，涂层通过以下方法制备：步骤一：等离子清洗；步骤二：沉积Ti打底层；步骤三：制备Ti和碳结合体层；步骤四：沉积四面体无定型无氢非晶碳层。本实用新型的物理气相沉积Ta‑C涂层采用离子溅射及辉光放电技术相结合工艺制备，成膜均匀致密。本实用新型的Ta‑C涂层硬度接近金刚石硬度，具有硬度更高、自润滑性更好以